PVD镀膜设备有哪些优点？
发布时间：
2022-07-14
PVD镀膜设备采用真空蒸发镀膜的方法，在玻璃的外表面镀上一层纳米化学材料，很大限度地降低了玻璃的表面张力，使灰尘与玻璃表面的接触面积减少90%以上。
PVD镀膜设备有哪些优点？
PVD镀膜设备采用真空蒸发镀膜的方法，在玻璃的外表面镀上一层纳米化学材料，很大限度地降低了玻璃的表面张力，使灰尘与玻璃表面的接触面积减少90%以上。
PVD镀膜设备有哪些优点？
1、PVD镀膜设备采用原装进口纳米喷嘴，喷嘴采用高低压转换雾化设计，使液体分子细，不影响药液效果。
2、恒流控制系统保证了药液的稳定、恒定供应，而不是波浪线供应，解决了白雾现象。
3、控制喷涂剂量，提高药液的雾化能力，使薄膜与玻璃结合均匀，提高产品喷涂的均匀性，增加薄膜表面的光洁度。
4、PVD镀膜设备喷嘴移动速度和输送线速度可调，大大提高了生产效率，满足了各种用户的需求。
5、理论设计产能为3000-4000片/小时。
6、采用双等离子体处理，镀膜前清洗工件，减少工件本身附着的杂质，使玻璃表面与薄膜发生反应，提高薄膜结合的牢固性，提高产品的抗老化和耐摩擦性能，使镀膜质量更高。
(1)表面清洁：对于C、O污垢(有机物)，大气等离子体有很强的清洁作用(氧化反应)。
(2)表面活化：分子键材料等离子体分解形成OH基团=活性效应。
(3)表面粗糙化：等离子体粒子破坏表面，单位为纳米=粗糙表面效应。
7、如果将镀膜机中的电子束加热法与传统的电阻加热法进行比较。电子束加热会产生较高的通量密度，有利于高熔点物质的蒸发，也能在一定程度上提高蒸发速率。
8、PVD镀膜设备工作时，将待蒸发的原料放入水冷铜坩埚中，可防止材料被污染，并可制得高纯度的薄膜。
9、电子束蒸发的粒子动能比较大，会有利于薄膜的精度和结合力。
PVD镀膜设备有哪些缺点？
(1)PVD镀膜设备整体结构复杂，与其他镀膜设备相比价格相对较高。
(2)PVD镀膜设备工作时，如果蒸发源附近的蒸汽密度比较高，那么电子束和蒸汽粒子之间会有一些相互作用，影响电子的通量，电子的通量会损失或抵消。同时你可能会触发蒸汽和残留气体的激发和电离，影响整片的质量。
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