PVD镀膜设备有哪些特点？
发布时间：
2022-07-08
PVD镀膜设备广泛应用于新型工业电子产品行业。这种涂层技术有许多优点，但也有一些缺点。由于蒸发涂布机的特性在薄膜生产中起着很大的作用，所以薄膜主要是通过加热涂布机中的电子束来生产的。那么，PVD镀膜设备有哪些特点?
PVD镀膜设备有哪些特点？
PVD镀膜设备广泛应用于新型工业电子产品行业。这种涂层技术有许多优点，但也有一些缺点。由于蒸发涂布机的特性在薄膜生产中起着很大的作用，所以薄膜主要是通过加热涂布机中的电子束来生产的。那么，PVD镀膜设备有哪些特点?
PVD镀膜设备有哪些特点？
1、纳米级厚度和均匀的薄膜厚度：真空镀膜的厚度只有几十到几百纳米，而且薄膜各部分的厚度均匀。在塑料表面涂上UV进行封闭找平，达到理想的镜面效果。因为涂层太薄，所以对底涂UV材料的外观要求近乎苛刻，对涂层洁净度要求高。同时，产品外观面积越大，次品率可能越高。目前，PVD镀膜设备涂层厚度由透光率和反射率控制。涂层越厚，透射率越差，反射率越高。
2、PVD镀膜设备涂层产品的放置是定向的：在立式和卧式电镀炉中，产品须放置在电镀炉工具的平行平面上。因为金属材料随蒸汽流线性或弧形移动，所以涂层材料通常与工具平行放置。在镀膜室空间一定的情况下，产品的平面面积越大，曲面越深，生产能力越低，相应的生产成本越高。
3、UV底漆涂装和涂膜后形成的表面比较脆弱敏感，需要特别保护：因为涂层在时间上仅仅是纳米尺寸的，它不具有屏蔽底漆的差的紫外线表面的能力。此外，由于涂层太薄，涂层的金属性弱，容易刮伤擦伤。产品底部涂上UV后，涂完后无法人工全检。在PVD镀膜设备操作过程中，可通过夹具专用手柄、手套、口罩和车辆无尘罩来防止产品表面被污染和损坏。
4、涂层材料或蒸汽的注射速率非常高：磁控溅射和蒸镀一般金属原子的注入速率在2000m/s左右，每炉镀膜时间一般在15-20分钟左右，磁控溅射根据工艺不同而不同。每炉容量约为450-800pcs/炉，不同产品尺寸每炉容量不同。
5、有各种各样的方法来制造颜色。
6、用于涂层的金属材料范围非常广泛。除了黑色金属，理论上所有的金属和金属合金都可以作为电镀材料。常用的有铝、铜、锡等。另外，由于镀膜是物理过程，对产品材料本身的性能几乎没有影响。
7、PVD镀膜设备涂层产品的质量水平：附着力，无脱落，耐磨性：200-300次。
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