PVD真空镀膜机
PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
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PVD真空镀膜机
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产品描述
PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
PVD镀膜设备常见的有多弧离子镀膜设备，直流磁控溅射镀膜设备，中频磁控溅射镀膜设备等。
又称真空镀膜.真空电镀的做法是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，为各行业采用。
技术参数
| 设备型号 | PVD-0708 | PVD-0809 | PVD-0910 | PVD-1012 | PVD-1212 | PVD-1215 |
| 真空室尺寸 | Φ700*H800 | Φ800*H900 | Φ900*H1000 | Φ1000*H1200 | Φ1200*H1200 | Φ1200*H1500 |
| 真空室结构 | 立式前开门结构配罟抽气系统及水冷系统 | |||||
| 真空获得系统 | 维持泵+机械泵+罗茨泵+扩散泵或分子泵(具体型号可根据客户的要求进行配置) | |||||
| 真空测量系统 | 一台皮拉尼(MKS)一台冷阴极(MKS)一台薄膜规(MKS) | |||||
| 电源类型 | 直流电源、中频电源、脉冲电源(偏压电源、弧电源) | |||||
| 极限真空指标 | 空载冷态 1.0-6.0x10-4Pa | |||||
| 电弧源 | 6台-8台 | 6台-8台 | 8台-12台 | 8台-12台 | 10台-14台 | 10台-14台 |
| 200A-300A | 200A-300A | 200A-300A | 200A-300A | 200A-300A | 200A-300A | |
| 偏压电源 | 20KW/台 | 20KW/台 | 20KW/台 | 30KW/台 | 30KW/台 | 30KW/台 |
| 磁控电源 | 1台-2台 | 1台-2台 | 2台-3台 | 2台-3台 | 2台-3台 | 2台-3台 |
| 工件转动方式 | 多轴行星式公自转、变频调速(可控可调) | |||||
| 工件烘烤温度 | 常温-300℃至450℃-600℃可控可调(PID温控) | |||||
| 工艺气体 | 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统 | |||||
| 氩气、氮气、氧气、乙炔等 | ||||||
| 冷却方式 | 水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机(制冷机)或深冷系统。(客户提供) | |||||
| 控制方式 | PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式 | |||||
| 供给指标 | 气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa | |||||
| 报警及保护 | 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。 | |||||
| 整机总功率 | 25-65KW | 45-85KW | 65-105KW | 85-115KW | 95-125KW | 100-130KW |
| 输出频率 | 电压380V+5%，频率50Hz(可根据客户国家用电标准配置) | |||||
| 设备占地面积 | 15-50㎡ | 15-50㎡ | 25-55㎡ | 25-55㎡ | 35-55㎡ | 35-55㎡ |
| 备注 | 可根据用卢要求设计制造非标设备，可加装磁控溅射靶、中频孪生对靶等 | |||||
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