pvd镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理
发布时间：
2022-03-21
pvd镀膜机就离子镀而言，蒸发物质粒子电离后有3000 ~ 5000电子伏特的动能，高速轰击工件不仅沉积速度快，pvd镀膜机还能穿透工件表面，注入基底可以形成非常深的扩散层。离子镀的界面扩散深度可达4 ~ 5微米。
购买pvd镀膜机时，商家将对pvd镀膜机进行相关知识(如镀膜技术工艺步骤、原理、维护方法、机器运行注意事项等)的培训，那么，下面一起了解下pvd镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理吧!
pvd镀膜机涂层技术步骤分为以下四个阶段：
(1)清洁工件。连接直流电源，放电氩离子，氩离子轰击工件表面，工件表面粒子和污垢突出。
(2)电镀材料汽化：即通过AC后蒸发电镀材料汽化。
(3)电镀离子的移动：在汽化院中原子、分子或离子碰撞，通过高压电场后高速冲向工件。
(4)电镀材料原子、分子或离子沉积在气体中。当工件表面蒸发材料离子超过溅出的离子数时，逐渐堆积，形成牢牢附着在工件表面的涂层。
pvd镀膜机就离子镀而言，蒸发物质粒子电离后有3000 ~ 5000电子伏特的动能，高速轰击工件不仅沉积速度快，还能穿透工件表面，注入基底可以形成非常深的扩散层。离子镀的界面扩散深度可达4 ~ 5微米。
pvd镀膜机是物理气相沉积，分为真空蒸发涂层、真空溅射涂层和真空离子涂层。我们常说的pvd镀膜机涂层是真空离子镀和真空溅射镀。PVD真空镀膜机涂层工艺原理分为以下三种情况：
(1)真空蒸发的基本原理：在真空状态下蒸发金属、金属合金等，然后沉积在气体表面。蒸发的方法一般是通过电阻加热、电子束轰击镀材料蒸发，使蒸发成为气相，然后沉积在气体表面。
(2)溅射涂层的基本原理：在氩填充(Ar)气体的真空状态下，氩(Ar)原子价氩离子(Ar溅射涂层中入射离子一般通过辉光放电获得，因此在l0 -2 Pa~10Pa范围内，溅射粒子在飞入气体的过程中容易与真空室中的气体分子发生碰撞，移动方向随机，沉积膜均匀。
(3)离子镀的基本原理：在真空状态下，使用一种等离子电离技术，将电镀原子部分电离成离子，同时产生大量高能中性原子，并在电镀基板上添加负偏压。这样，深度在负偏压的作用下，离子沉积在气体表面，形成薄膜。
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