pvd镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理


发布时间:

2022-03-21

pvd镀膜机就离子镀而言,蒸发物质粒子电离后有3000 ~ 5000电子伏特的动能,高速轰击工件不仅沉积速度快,pvd镀膜机还能穿透工件表面,注入基底可以形成非常深的扩散层。离子镀的界面扩散深度可达4 ~ 5微米。

  购买pvd镀膜机时,商家将对pvd镀膜机进行相关知识(如镀膜技术工艺步骤、原理、维护方法、机器运行注意事项等)的培训,那么,下面一起了解下pvd镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理吧!  

 

  pvd镀膜机涂层技术步骤分为以下四个阶段:

 

  (1)清洁工件。连接直流电源,放电氩离子,氩离子轰击工件表面,工件表面粒子和污垢突出。

 

  (2)电镀材料汽化:即通过AC后蒸发电镀材料汽化。

 

  (3)电镀离子的移动:在汽化院中原子、分子或离子碰撞,通过高压电场后高速冲向工件。

       pvd镀膜机

  (4)电镀材料原子、分子或离子沉积在气体中。当工件表面蒸发材料离子超过溅出的离子数时,逐渐堆积,形成牢牢附着在工件表面的涂层。

 

  pvd镀膜机就离子镀而言,蒸发物质粒子电离后有3000 ~ 5000电子伏特的动能,高速轰击工件不仅沉积速度快,还能穿透工件表面,注入基底可以形成非常深的扩散层。离子镀的界面扩散深度可达4 ~ 5微米。

 

  pvd镀膜机是物理气相沉积,分为真空蒸发涂层、真空溅射涂层和真空离子涂层。我们常说的pvd镀膜机涂层是真空离子镀和真空溅射镀。PVD真空镀膜机涂层工艺原理分为以下三种情况:

 

  (1)真空蒸发的基本原理:在真空状态下蒸发金属、金属合金等,然后沉积在气体表面。蒸发的方法一般是通过电阻加热、电子束轰击镀材料蒸发,使蒸发成为气相,然后沉积在气体表面。

 

  (2)溅射涂层的基本原理:在氩填充(Ar)气体的真空状态下,氩(Ar)原子价氩离子(Ar溅射涂层中入射离子一般通过辉光放电获得,因此在l0 -2 Pa~10Pa范围内,溅射粒子在飞入气体的过程中容易与真空室中的气体分子发生碰撞,移动方向随机,沉积膜均匀。

 

  (3)离子镀的基本原理:在真空状态下,使用一种等离子电离技术,将电镀原子部分电离成离子,同时产生大量高能中性原子,并在电镀基板上添加负偏压。这样,深度在负偏压的作用下,离子沉积在气体表面,形成薄膜。

 

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