光学pvd镀膜机的结构及原理
发布时间：
2022-01-31
pvd镀膜机是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。因为真空镀膜可以更均匀地对产品进行镀膜，所以使用越来越频繁。
pvd镀膜机是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。因为真空镀膜可以更均匀地对产品进行镀膜，所以使用越来越频繁。
光学pvd镀膜机是指在真空条件下，用物理方法在元器件表面涂覆一层或多层薄膜的过程。为满足不同场景的需求，光学镀膜可以改变元器件的光学性能。随着工业技术的发展，用户对涂料生产成本和质量提出了更高的要求，不断增长的用户需求使得不断改进生产工艺成为必要。
光学pvd镀膜机结构：光学pvd镀膜机由真空系统、蒸发系统、冷却系统和电气系统组成，其中真空系统由真空罐和排气系统组成。真空罐是涂布机的主体，涂布过程在真空罐中完成。真空罐通过连接阀与排气系统连接。为了提高薄膜质量，防止空气分子对溅射离子的影响，工作时须将光学元件和离子源置于真空环境中。排气系统主要由机械泵、罗茨泵和真空泵组成，负责排出真空罐内的气体，在罐内形成真空环境。蒸发系统主要指成膜装置。镀膜机的成膜装置有很多种，如电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等。
光学pvd镀膜机工作原理：光学pvd镀膜机通过真空溅射在光学元件上镀膜，从而改变元件对入射光的反射率和透过率。同时为了提高成像质量，尽可能减少元件表面的反射损耗，往往会涂覆多层膜。光学元件镀膜后，光在多层膜表面多次反射透射，形成多光束干涉。通过控制薄膜的厚度和折射率，可以获得不同的强度分布。基于这一原理，可以制造偏振反射膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片，以满足更复杂的要求。
与传统的真空镀膜机相比，光学pvd镀膜机具有以下三个特点：(1)光学薄膜表面光滑，层与层之间的折射率可以在表面跳跃，但薄膜层内部的折射率稳定。(2)光学镀膜机镀膜过程中基板的温升较低，因此光学镀膜机可以对温度敏感的元器件表面进行镀膜。(3)对于光学元件的镀膜，光学镀膜机精度更高、膜层更均匀、光学性能更稳定。目前光学pvd镀膜机已广泛应用于光通信、光学显示、激光加工、航空航天、AR(增强现实)、VR(虚拟现实)等领域。
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